推動(dòng)顯示屏制造中使用氣體的主要因素包括PECVD（等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積），占ESG消耗的75％，而干法蝕刻則推動(dòng)了氦氣的使用。LTPS和MO晶體管的生產(chǎn)推動(dòng)了氧化亞氮的使用。ESG在MO晶體管生產(chǎn)中的使用情況與圖4所示不同：氧化亞氮占?xì)怏w消耗的63％，三氟化氮占26％，硅烷占7％，六氟化硫和氨一共約占4％。激光氣體不僅用于光刻，也用于LTPS中準(zhǔn)分子激光退火應(yīng)用。

硅烷：SiH4是顯示屏制造中關(guān)鍵的氣體之一，與氨氣（NH3）結(jié)合使用，形成用于a-Si晶體管的氮化硅層，與氮?dú)猓∟2）結(jié)合使用，形成用于LTPS晶體管的預(yù)準(zhǔn)分子激光退火a-Si，或與氧化亞氮（N2O）結(jié)合使用形成MO晶體管的氧化硅層。

三氟化氮：從a-Si和LTPS顯示屏生產(chǎn)中的消耗和使用量來看，NF3是a-Si和LTPS顯示屏生產(chǎn)中使用多的單種電子材料，而在MO生產(chǎn)中，其使用量不如N2O。NF3用于清潔PECVD腔室。對于這種氣體，需要具備可擴(kuò)展性，才能在競爭激烈的市場中建立所需的成本優(yōu)勢。

氧化亞氮：LTPS和MO顯示屏生產(chǎn)中均使用，從MO生產(chǎn)中的消耗和使用量來看，N2O已超過NF3成為MO生產(chǎn)中用量多的電子材料。N2O是一種區(qū)域性、本地化的產(chǎn)品，由于其成本低，無法采用物流成本高昂的長供應(yīng)鏈。平均每5.5平方米素玻璃重約2公斤，每月一般需要240噸N2O才能生產(chǎn)120K的8.5 MO顯示屏。N2O壓縮氣體拖車每次只能提供6噸N2O，對于MO生產(chǎn)來說，這種做法成本高，風(fēng)險(xiǎn)大。

氮?dú)猓阂话愕拇笮惋@示屏廠氮?dú)庑枨罂筛哌_(dá)50,000 Nm3/小時(shí)，因此現(xiàn)場發(fā)生器（如林德 SPECTRA-N?50,000）是一種具有成本效益的解決方案，與傳統(tǒng)的氮?dú)夤S相比，顯示屏制造中的CO2（二氧化碳）排放減少8％。

氦氣：氦氣用于流程中和流程后冷卻玻璃。由于氦氣是一種不再生氣體，鑒于其成本和可得性，制造商正在研究減少氦氣的使用。